根据日经报道，日本半导体设备大厂东京威力科创于10月15日对外宣布，其位于熊本的新研发大楼（Process Development Building）已正式落成，将作为公司推进次世代半导体制程设备研发的核心基地，预计2025年春季投入运行。
随着全球数字化浪潮与AI应用需求激增，东京威力科创正锁定“更精细制程（finer scaling）”与“更高集成度（higher integration）”两大方向着力研发。公司预期，其设备技术未来有望延伸至1纳米级的先进制程领域。
在技术合作方面，东京威力科创也携手荷兰ASML以及比利时Imec等国际机构，携手推动先进极紫外光（EUV）技术与新时代材料的研发。公司指出，随着线宽日益缩小、制程日趋复杂，化学试剂与用水用量也随之攀升，因此未来在节能、减少化学品使用、降低水耗方面的环保技术将是关键，目标在维持性能提升之余，也能压低先进制程的制造成本并减少碳排放。
这栋新落成的大楼座达到熊本县合志市，总楼地板面积约27,000平方米，投资规模约470亿日元。该设施为东京威力科创旗下制造与研发子公司Tokyo Electron Kyushu所属，主要负责涂布／显影设备（coater-developers）、清洗系统（cleaning systems）以及3D封装设备（含芯片键合机，wafer bonders） 的设计与制造。
面对短期市场波动与中国设备需求衰退的挑战，东京威力科创对中长期前景仍抱持信心。公司计划在2024至2029会计年期间投入超过1.5兆日元于研发领域，相较于前五年增幅约90%，目的在稳固次世代制程及提升设备效率的技术实力。
近年来，熊本地区正在快速发展成为日本半导体产业的新聚落。除台积电之外，包括Sony及材料与设备公司也已落地当地。这座新研发大楼完工后预期可进一步加深与台积电之间的合作关系，促进先进曝光技术与涂布／显影设备的验证与联合开发。
值得注意的是，先前台积电的机密外流案引起关注，未来双方的信任与合作是否将因此受到影响，仍有待观察。
（首图来源：东京威力科创）
倍享策略-炒股资金配资-在线配资平台-a股杠杆平台提示：文章来自网络，不代表本站观点。
